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硅片上四種不同厚度的二氧化硅(SiO2 )薄膜(0.4, 0.8, 1.3, 4.2 nm)由傅立葉變換紅外光譜儀進行分析。
隨著氧化層厚度的降低,1,250 cm-1和1,065 cm-1附近的峰值向低波數方向移動。
為了測定薄膜厚度與峰值強度的關系,縱軸為峰值高度,橫值為薄膜厚度。
我們的 GC 解決方案包括使您能夠成功進行氣相色譜分析的氣相色譜分析儀、進樣器、檢測器,色譜柱、自動進樣器以及軟件。
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